PROCESS × DEVICE · 半导体一线工艺工程师

从 55nm 到 14nm,从 32 层到 196 层 3D NAND,
都亲手干过

我是 Diamond,在半导体产线摸了 11 年。从 55nm 到 14nm 逻辑器件、从 32 层到 196 层 3D NAND,我全程参与了多条产品线的从0到1,也扛过良率从爬坡到量产的完整项目——不是看过,是亲手干过。

CVD 薄膜(low-k / STI HARP / 高应力 SiN)和 CMOS 器件我两边都踩过坑,横跨 process 和 device 的复合背景,让我能帮你把一个工艺问题直接翻译成器件语言、定位根因。60+ 件发明专利、历年良率与失效整改笔记,大多沉淀在站内资料里。

如果你正卡在:工艺窗口调不动、简历写不透自己的价值、面试答不好"为什么"——这些我都能聊,帮你把模糊的工艺直觉,落成可执行的方案和讲得清的故事。

B2B SERVICES · 企业服务

把 11 年工艺 know-how,
变成企业的第二增长曲线

Fab、设备商、投资机构不缺 AI 工具,缺的是「既懂工艺、又能把 AI 用对地方」的人。我用一线 CVD/CMOS 功底做判断,AI 做体力——专利梳理、自动化小工具、内训与产线诊断,交付带领域判断的结果,不是信息搬运。

PAIN POINTS

企业卡在三类的反复高耗时活上

文档 / 专利淹没

立项查新靠人肉

新工艺立项要查几十篇专利、上百篇文献;竞品分析靠工程师人肉读 PDF,慢且易漏。

产线归因慢

良率异常靠拍脑袋

良率异常、缺陷溯源,老法师凭经验拍脑袋,新人无从下手,MTTR 拉不动。

尽调 / 培训缺位

看不懂技术壁垒

投资机构看半导体项目看不懂技术壁垒;企业内训找不到一线出身的讲师。

SERVICE LINES

三条服务线

都是「重复、耗时间、需要领域判断但不要求你亲自写每一行」的活——正好用 AI 当放大器。

服务线一

工艺文档与专利 AI 梳理

对象:Fab 研发部、设备/材料商战略部、产业投资机构

  • 专利查新与 FTO 自由实施初筛
  • 竞品技术路线梳理
  • 领域知识库搭建(RAG,含领域判断标注)

交付:专利地图报告 / 技术路线对比表 / 可检索知识库

服务线二

半导体场景自动化小工具

对象:Fab PIE/YE、设备商应用工程师

  • 良率异常归因辅助脚本
  • 专利/文献批量查新 agent
  • 工艺窗口 DOE 辅助、缺陷图自动分类

交付:可本地运行 Python 工具 + 文档(产线数据本地化、不触云)

服务线三

B 端内训与产线诊断

对象:企业培训部门、遇瓶颈的 Fab

  • 针对性培训:CVD 介质膜 / 应力工程 / STI HARP
  • 具体工艺问题诊断咨询

交付:培训课件 / 诊断报告 / 改进建议清单

PRICING

务实报价(不虚高)

比你卖 ¥49 PDF 天花板高 1–2 个数量级——因为你是「带行业判断的交付」,不是信息搬运。

服务类型计费报价区间说明
专利/文献梳理(单次项目)按项目¥3,000 – ¥15,000视专利数量、深度;含领域判断
领域知识库搭建(RAG)项目 + 年维护¥10,000 起 + ¥2,000/月可复购
自动化小工具按项目¥5,000 – ¥30,000视复杂度;本地化部署
B 端内训按天/场次¥8,000 – ¥20,000/天差旅另计
工艺诊断咨询按项目¥10,000 – ¥50,000视复杂度与周期
长期 AI 外包伙伴月费¥5,000 – ¥20,000/月做成「外包 AI 部门」
SAMPLE CASE

样板案例:APF 专利地图(脱敏)

演示「专利地图 + 领域判断标注」交付形态。所有专利号来自公开数据库,非真实客户委托。

核心发现

三层专利格局

  • AMAT:基础配方 + 工艺 + 应力/透明,全家桶式(US7064078 / US7638440 / US11784042)
  • Lam:掺杂改性强攻(硫/金属,US10096475 / WO2019099233)
  • TEL / Micron / 存储厂:基板处理与应用侧布局
溢价所在

领域判断标注

  • US11784042(<100 mTorr / <350°C):低压低温 throughput 瓶颈、工艺窗口窄
  • Lam 金属掺杂(US10096475):残留污染刻蚀腔,Fab 导入须评估 cross-contamination
  • 通用 AI 只给表面摘要,关键权利要求的工艺可行性风险由一线经验点出
FTO 自由度

红 / 黄 / 蓝区

红区(禁):纯非晶碳基础 PECVD 配方、应力/透明控制基本专利(AMAT 2004 起密布)——新玩家绕开。 黄区(机会):掺杂改性、后处理(离子注入/UV cure)、特定应用集成(DRAM 深孔 / 3D NAND 薄叠层 / EUV 协同)。 蓝区(空白):低成本掺杂组合 + 与 EUV 协同薄叠层 + 国产替代配方(国内 Fab / 设备商窗口)。

START

怎么开始

首单推荐从「专利查新 + 技术路线梳理」切入:不涉密、交付清晰、试错成本低,一个 ¥3k–5k 小项目就能跑通闭环。

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直接聊你的课题

把你的工艺方向 / 专利困扰 / 内训需求发我,我先给一个「能不能做、怎么做、大概多少钱」的直判,不绕弯。

深度服务客户的工艺档案与持续交流,沉淀在知识星球【Diamond 半导体工艺圈】。